美管制無效？中國11月進口ASML先進DUV金額激增1050％

在美國公佈新版出口管制後，中國上月進口ASML先進DUV金額爆增。（路透資料照）

〔編譯魏國金／台北報導〕美國政府10月中旬宣佈進一步升高對中國先進半導體與設備的出口管制，以彌補前一年相關限制的漏洞。然而11月中國從荷蘭進口的關鍵曝光設備總額年增1050%，顯示在美國緊縮出口規範後，中國的半導體公司尚未被阻斷接收某些先進生產設備。

南華早報報導，上月中國進口16台荷蘭曝光機，總額7.627億美元，為去年10倍之多。與10月相較，從荷蘭進口21台曝光機，總額6.725億美元，平均每台價差46%，顯示中國企業持續取得更先進的曝光系統。

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荷蘭是曝光機最大出口國，幾乎所有曝光機都來自艾司摩爾（ASML）一家公司。

報導說，11月中國共進口42台曝光機，總額8.168億美元，當中15台來自日本，荷蘭與日本幾乎佔上月中國相關進口的全部。日本的半導體設備巨頭是佳能與尼康。

儘管多年來北京推動技術自立，但截至2021年，中國晶圓廠使用的曝光機只有不到5%是中國製造。

日本與荷在今年1月同意加入美國對中國的出口管制後，相繼公佈自己的晶片設備的出口管制。而在美國10月擴大管制規範之後，日荷連兩月相關出口激增。

對於曝光系統，美國取消適用於特定深紫外光機（DUV）的「微量原則」（De minimis Rule），該原則設定的實際門檻高於荷蘭政府9月生效的出口規範。微量原則讓美國政府得以對產品包含至少25%美國原始技術的非美國公司擁有權管轄，然而，新版管制基本上使該比例無關緊要。

根據上月生效的該新規，艾司摩爾將限制向中國少數涉及先進半導體製造的晶圓廠，出貨包括Twinscan NXT1980Di等特定的浸潤式DUV。艾司摩爾執行長溫尼克（Peter Wennink）說，新規排除絕大多數中國客戶，這些客戶生產28奈米以上成熟與傳統晶片。

半導體研究機構SemiAnalysis首席分析師帕特爾（Dylan Patel）指出，「多數中國晶圓廠仍能從艾司摩爾購買DUV系統，即使中芯國際也可以，只有其上海廠不行」。

柏林科技政策智庫「新責任基金會」（SNV）技術和地緣政治主任克萊恩漢斯（Jan-Peter Kleinhans）表示：「銷售不會立即下降，因為 2023年11月出貨的設備很可能在2022年底或 2023 年初取得許可」。

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